技術文章
天津中環電爐的真空釬焊爐采用雙層SUS304水冷爐體,搭配優質保溫隔熱結構,控溫均勻、潔凈節能;加熱元件可選鉬、鎢,最高溫度可定制至1500℃/2000℃,支持真空、保護氣氛工況;觸屏PLC控制系統,手動/自動自由切換,可選配快速冷卻模塊,還可按客戶工藝需求定制化設計,兼顧科研試...
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真空快速退火爐,主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材、水脹件、銷、醫療器械、不銹鋼釘、不銹鋼鏍絲、壓鉚件、不銹鋼軸承、表殼、表帶、刀具、微型軸、自攻自鉆、餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火、固溶、退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐??焖偻嘶馉t的使用注意事項:1.爐子使用或長時間不用后,要在120℃左右烘烤1小時,在300℃左右烘烤2小時后使用,以免造成爐膛開裂。爐溫盡量不要超過額定溫度,以免損壞加熱元件及爐襯。禁止向爐膛內直接灌注各種液體及溶解金屬,保持爐內的清潔。2.爐...
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CVD管式爐應用領域:廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝,例如:碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等;也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.產品特點:專門設計用于高溫材料沉積之用。硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛,可預抽真空,便于通入參加反應的氣體,CVD管式爐進口單回路智能溫度控制儀控制、溫區設計隔板結構。具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動孝升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點,是理想的科研設備。1、外觀采用耐高溫、耐腐蝕油漆處理。...
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真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結爐等物體在通入一定氣體的爐膛內進行燒結的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結,有助于燒結過程,提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛高溫爐由爐體、加熱室、真空系統、充放氣系統、風冷循環系統、電控系統、氣動系統,水冷系統及料車組成。真空氣氛爐一般在春秋季節泄漏故障較多,閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發生。下面分享一些真空氣氛爐常見的故障以及排除方法:1.在高溫試驗中,如溫度變化達不到試驗溫度值時,可以檢查電器系統,逐...
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旋轉管式爐旋轉管式爐是一種輕體化連續式電爐,廣泛應用于化工粉末、顆粒等產品的快速燒成,具有燒成周期短、勞動強度低等優點。主要運用于粉末顆粒,化工,納米稀土石墨烯,耐材,鋰電正負極材料,新能源等行業測定材料在一定氣氛條件下的設備。如果您需要保持物料的單顆粒結構(如在干燥或煅燒物料時),旋轉管式爐是您的選擇。持續不斷的管旋轉運動和保護氣的應用將為您帶來*的處理結果。旋轉管式爐結構1、外殼爐殼主要采用鋼板與型材焊接而成,進料口用精加工件與硅橡硅密封,外殼并裝有可裝卸防護板,防護板采...
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真空快速退火爐,主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材、水脹件、銷、醫療器械、不銹鋼釘、不銹鋼鏍絲、壓鉚件、不銹鋼軸承、表殼、表帶、刀具、微型軸、自攻自鉆、餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火、固溶、退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐真空快速退火爐設備用途主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材、水脹件、銷、醫療器械、不銹鋼釘、不銹鋼鏍絲、壓鉚件、不銹鋼軸承、表殼、表帶、刀具、微型軸、自攻自鉆、餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火、固溶、退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐。處理...
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隨著現在工業技術的發展,使得各行各業企業開始拋棄傳統的設備,在傳統工業中燃料的發展已經逐漸被電爐取代,現在電爐的應用范圍也是越來越廣。如今,電阻爐設備已經擴展到家庭、醫藥等多個領域,也是的現在工業技術飛速發展起來。箱式真空氣氛爐適用于工礦企業、大專院校、科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。可供化學分析、物理測定以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。氣氛爐是一種實驗設備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣...
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立式高溫管式爐采用進口氧化鋁多晶體纖維固化爐膛,保溫性能好,電阻絲加熱,采用智能化程序控溫系統,可抽真空,通氣氛。外形美觀大方、結構設計合理,使用方便,安全可靠。主要用途和適用范圍:高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等實驗。主要功能和特點:1、高溫石英管/剛玉管/合金管,*的連接方式,可以通入各種不同的保護氣氛;2、爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維材料,保溫性能好,耐用,拉伸強度高,無雜球,純度高,節能效果明顯;3、加熱元件采用合金絲0Cr27A...
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CVD系統設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產,CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外,現在正在使用在許多行業,包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域實驗機理:CVD成長系統是利用氣態化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發生化學反應,從而在基體表面上生成不揮發涂層的一種薄膜材料制備系統CVD系統產品的特點:1CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式2CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意...
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