CVD管式爐應用及其特點
CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。
應用領域：
CVD系列真空氣氛管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝。
例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理。
CVD管式爐主要特點：
1.采用高純石英管或剛玉管作為內爐膛。
2.可拆卸式的三面密封方式，具有良好的潔凈度和真空度；耐火，保溫材料全部采用的輕質纖維制品，整機質量輕、能耗低；加熱元件采用U型硅鋁(碳)棒或*電阻絲；
3.CVD系列真空氣氛管式爐溫控系統采用進口多段智能程序溫度控制儀控制，溫度控制具有良好的穩定性、重復性。
