此款CVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配滑動/雙管)
2.手動、電動滑動系統(tǒng)
3.多路質量流量控制系統(tǒng)
4.真空控制系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

本CVD系統(tǒng)應用覆蓋面廣，可滿足各類新型材料、薄膜涂層、粉體、陶瓷制品的制備與燒結工藝需求，核心應用場景如下：
1. 新型納米及二維材料制備
可實現(xiàn)石墨烯生長、二維材料批量制備、TMDs過渡金屬硫族化合物材料制備、二硫化鉬材料制備、碳納米管生長、ZnO納米結構生長等前沿納米材料加工，是新材料科研與產業(yè)化的核心設備。
2. 各類功能薄膜材料制備
適配多種硬質、功能型薄膜生長工藝，涵蓋氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金剛石薄膜、功能性金屬涂層等，可廣泛應用于材料表面改性、防護涂層、光電薄膜、半導體薄膜等領域。
3. 特種晶體與陶瓷材料制備
支持新型晶體材料生長、高性能陶瓷纖維制備，同時可完成陶瓷電容氣氛燒結、粉體材料氣氛燒結、非晶態(tài)合金生長等特殊工藝，適配電子陶瓷、特種合金、功能粉體材料的生產加工需求。