升降坩堝爐采用周期作業，以硅鉬棒為加熱元件，爐膛額定溫度為1600℃，供實驗室、工礦企業、科研單位做陶瓷及鈾料的燒晶、熔解、分析等高溫加熱用，也可滿足企業作生產設備之用。

 

　　應用范圍：

　　升降坩堝爐可廣泛應用于高等院校，科研院所，工礦企業等實驗和小批量生產。它以含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點；

　　目前本產品主要用于高校、科研院所、工礦企業主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等。

　　升降坩堝爐用于電子元器件、陶瓷、航空航天等特殊材料等領域的熱處理研發工藝及有色金屬材料做熔煉或熔化實驗等。
 

　　升降坩堝爐的溫控及配電系統：

　　控制面板為觸摸屏（需要時安裝、標配為宇電溫控708P），可以儲存50條燒結工藝曲線，每條曲線可50段編程，并可以自由命名，并在主面板上顯示出來。升降溫曲線實時記錄并存儲在觸摸屏內，方便后期查詢。

　　觸摸屏的人機界面非常友好，編程非常直觀，簡單易學。

　　多重保護功能：超溫報警并斷電；斷偶報警并斷電；斷棒報警；溫度偏差報警；可控硅短路報警；程序結束報警并斷電。