小型PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積反應溫度降低，普通CVD設備的沉積溫度大多在900℃左右，而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應，可以使化學氣相沉積的溫度降到400℃左右，所以這個系統稱為增強型化學氣相沉積系統。

 

　　該型號PECVD綜合了國內大多數廠家的PECVD系統的優點，觸摸屏集中一鍵控制，實驗證明此結構沉積速度快，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了成儀自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統，使得操作更加簡便，功能更加*。

 

　　產品用途：

　　小型PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

　　主要特點：

　　1、智能氣路通斷：每路氣體均可定時通斷，自由切換，省時省力；

　　2、射頻功率的定時控制：預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間，自動運行；

　　3、整機結構融為一體：整機長度只有1.5米，移動方便，避免分散組裝的困擾。

　　4、AIO控制系統：加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統一集中調節和操控，協調控制：成儀AIO控制系統；

　　5、爐膛移動速度可調：根據實驗要求，用戶可設定爐膛左右移動的速度和距離，在沉積結束后爐膛可自動移開沉積區，使樣品快速冷卻；

　　6、管內真空度自動平衡：管內真空度實時監測，自動平衡。PECVD工藝要求石英管內真空度通常在0.1～100Pa之間，該型號PECVD的AIO控制系統會通過真空泵的自動啟停來維持用戶設定的管內真空度，使成膜效果達Z佳的均勻性。